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發(fā)布時間:2022-09-21 點擊量:469
下為中Dk/Df級層壓板,DMX512RDM
新一代積層材料特別要求表面低粗化度、低熱膨脹率、低介質(zhì)損耗及薄型剛強化等。全球半導(dǎo)體封裝中IC封裝載板由有機基板取代陶瓷基板,倒裝芯片(FC)封裝載板的節(jié)距越來越小,現(xiàn)在典型的線寬/線距為15μm,接下來會更細。多層的載板性能重點要求低介電性、低熱膨脹系數(shù)和高耐熱性,在滿足性能目標(biāo)基礎(chǔ)
不需要軟件編程。開發(fā)人員頂多是在選擇驅(qū)動器或決定電路板上元件的具體數(shù)值時要做一些計算。雖然使用簡單明確,DMX512RDM
結(jié)合力等要求,以及與HDI板工藝適應(yīng)性。目前國際上的HDI積層介質(zhì)材料主要是日本味之素公司的ABF/GX系列產(chǎn)品,以環(huán)氧樹脂搭配不同固化劑,以添加無機粉末提高材料剛性及減少CTE,也有使用玻纖布增強剛性。另有日本積水化學(xué)公司的類似薄膜積層材料,臺灣工研院也開發(fā)了此類材料。ABF材料也在不斷改進發(fā)展,
功能要求,并留有適當(dāng)余地,以便進行二次開發(fā)。DMX512RDM
還是希望用薄銅箔為好。還有,PCB線路L/S小于20μm情況下,一般薄銅箔也難以勝任,需要用到超薄銅箔(3~5μm)基板和附于載體的超薄銅箔。當(dāng)前精細線路對銅箔要求除了厚度更薄外,同時需要銅箔表面低粗糙度。通常為提高銅箔與基材的結(jié)合力,確保導(dǎo)體抗剝強度,都采取銅箔層粗化處理,常規(guī)的銅箔粗糙度
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